2025年8月26日，上海市科技大会暨科学技术奖励大会隆重召开，会上正式揭晓2024年度上海市科学技术奖评选结果。上海新阳半导体材料股份有限公司自主研发的“集成电路用干法蚀刻清洗液研发与产业化”项目，凭借显著的技术创新性与产业应用价值，荣获2024年度上海市科学技术进步二等奖。在本年度评选出的97项科学技术进步奖中，上海新阳是唯一以第一完成身份获奖的半导体材料企业。这一荣誉不仅是对公司研发实力的高度认可，也为正处于快速发展阶段的我国半导体产业注入了新的动力。

作为上海科技领域的最高荣誉之一，上海市科学技术进步奖一直是本地科技界的年度盛事。获奖项目代表了上海科技发展的顶尖水平，不仅能够为企业创造实际经济效益，更有力推动全行业技术升级，对上海建设具有全球影响力的科技创新中心具有重要意义。

该获奖项目由上海新阳总经理、总工程师王溯博士带队研发，从立项研究到产业化落地，团队历经多年艰苦探索。从基础材料研究，到构效关系搭建，再到配方优化与生产工艺创新，每个环节都凝聚着团队的智慧和汗水。最终，高性能干法蚀刻清洗液系列产品成功实现研发突破与大规模量产，并已取得良好的市场效益。这是对上海新阳始终坚持自主创新、攻坚关键技术瓶颈的的最佳回馈。该项目成果不仅是企业发展的程碑，更标志着我国半导体材料领域的重要突破，充分证明国内企业在关键半导体材料方面已具备扎实的研发与创新能力，能够通过自主研发打破国外技术垄断，实现关键材料的国产化替代。

展望未来，上海新阳将持续加大研发投入，不断优化芯片清洗液产品性能，积极拓展产品应用场景，致力于成为半导体材料行业引领者。随着上海新阳等国内企业的持续发力，我国半导体产业必将在自主创新的道路上行稳致远，逐步实现从“追赶”到“引领”的历史跨越，为我国科技产业高质量发展奠定坚实基础。